Fine System Components（ファインシステム機器）

Components for Semiconductor, LED, FPD Manufacturing Processes Fine System Components 〜 Ultra High Purity Components 〜 For Manufacturing Improvements CC-1394 1

Evolution Evolution ファインシステム機器の進化 「1980年代から蓄積してきた技術力」「コア部品の一貫生産へのこだわり」「徹底した製造工程の管理」で 長きにわたり半導体製造プロセスの高精度化・品質安定・高純度を実現して参りました。 これからも、お客様に“使いやすさ”をご提供します。 2020 PGM-2H PMP002 MMD003RN IAVB 電動タイプ TPB IAGD7 MNV AGD-HDF LGD AGD-HD リニューアル タイプ 2010 AMD （VEC-R） Part3R クリーンパネル FSP EVB AGD21R-A 塩ビバルブ マニュアル AMD_L タイプ FMD 高速タイプ AGD-R N2コントローラ PMP AVB Part7 給液用バルブ AMD_H FMGB IAGD5 初期タイプ（VEC） PGM AVB Part5 2000 AMD Part2 IAGD4 IAGD3 ニードルバルブ AMS MFGD チェックバルブ IAGD2 AVB Part3 MCGP AGD-V AMD Part1 AGD Part2 IAGD1 AVB Part2 1990 PYM/PMM AMB CKDのファインシステム機器 スペシャルサイト 1985 AGD 高真空用電磁弁 薬液用電磁弁 AVB HVB EMB 1943 Chemical Gas Vacuum 日本航空電機（株）設立 1 2 半導体プロセスの高度化に 回路合 線わ 幅せて 積 の 層 微化 細製 化品が進化 サック レバ ギック ュバ レル ーブ タ レギュ バレ ルー ブタ 流量調整バルブ IAGD付随機器 高 エ 温・ア 高オ 耐ペレ バ 久 イ ルブトバルブ ガ 集 ス流積 量診化 断ユガ ニッス ト供給システム N2制御機器 エアオペレイトバルブ 電動真空弁 制 真御 空シ 圧ス 力テム 比例制御システム

Total Supplier Total Supplier 半導体製造プロセスのトータルサプライヤーとして 半導体デバイス製造のファシリティから生産プロセス装置まで、 薬液・ガス・真空・空圧制御トータルソリューションをご提案。 お客様の“選びやすさ”をご提供します。 Gas Chemical Fluid System Etching エッチング Chemical ●エッチャー Total FA Worldwide Supplier Gas Vacuum Resist Stripping レジスト剥離 Chemical ●アッシャー Vacuum Gas Vacuum Cleaning Planarization 洗浄 研磨 Chemical ●ウェット Chemical ●CMP 洗浄装置 Gas Gas Vacuum Vacuum Deposition Ion Implantation 成膜 イオン注入 Chemical ●CVD Chemical ●イオン注入装置 ●ALD Gas Gas ●PVD Vacuum Vacuum Resist Coating ●拡散炉 Annealing レジスト塗布 ●酸化炉 ●窒化炉 アニール Chemical ●コータ ●スパッタ Chemical ●アニール装置 Gas Gas Vacuum Vacuum Exposure Chemical Supply 露光 薬液供給 Chemical ●ステッパー Chemical Gas Gas Vacuum Vacuum Developing Gas Supply 現像 ガス供給 Chemical ●デベロッパ Chemical Gas Gas Vacuum Vacuum 3 4

Product Lineup Product Lineup Gas Gas Process ファインシステム機器製品群 ガス・不活性ガスの超精密制御に貢献するドライファインシステム。 バルブ レギュレータ エアオペレイトバルブ エアオペレイトバルブ・マニュアルバルブ レギュレータ AGD（高温・高耐久） LGD PGM » 微細化の進展により求められる高耐 » プロセスガス用バルブの新バ » メタルダイアフラムを Chemical Chemical Process 久に対応するプロセスガス用バルブ。 リエーション。 採用したプロセスガス » お客様のニーズに応じ、3種類ライン 用レギュレータ。 ナップ。 » ガス圧力・流量の安 薬液・純水・スラリーのスーパークリーンな制御を実現するウェットファインシステム。 定化に貢献。 バルブ エアオペレイトバルブ マニュアルバルブ マニュアルバルブ エアオペレイトバルブ エアオペレイトバルブ（メタルレス） エアオペレイトバルブ（高圧用） AGD OGD MGD AMD※※3R AMD※1M AMD※1H » プロセスガス用バルブ » 90°回転スナップアク » マニュアル式バルブ。 の基幹商品。 ション方式のマニュア » 270°回転方式のハン » 薬液用エアオペレイトバルブのス » 金属部品を徹底的に排除し、浸食 » 大流量の薬液を流すために高 » 単体、集積タイプだけ ルバルブ。 ドル開閉タイプ。 タンダードタイプ。 性・透過性の高い強酸（塩酸・ 圧・高背圧に対応可能なバルブ。 ではなく、3方弁、2連3 » 幅広く圧力・温度・流体の条件 フッ酸）ラインに対応。 » 工場の階下ファシリティから安全 方弁など多種多様な に対応するハイグレードモデル。 » 工場の階下ファシリティから安全 な薬液供給を実現。 バリエーションに対応。 » 今まで細分化して使用していた機 な薬液供給を実現。 種を一つに統一可能。 システム システム機能品 エアオペレイトバルブ（マニホールド） 薬液用マニュアルバルブ マニュアルバルブ（メタルレス） 集積化ガス供給システム クリーンパネル 流量診断ユニット バキュームジェネレータ GAMD※※3R MMD※03RN MMD※0M IAGD FICS TPB VG » AMD※※3Rをマニホールド化し » 薬液用マニュアルバルブのスタン » 金属部品を徹底的に排除し、浸食 » 省スペース、メンテナン » お客様のご要 » ガス流量を高精度・短 » 省エネタイプの真空 省スペース化・配管機器類の削 ダードタイプ。 性・透過性の高い強酸（塩酸・ ス性を向上させたプロ 望・フローに応 時間にモニタリング。 排気装置。プロセスガ 減を実現。 » 高圧・高温対応によりプロセス フッ酸）ラインに対応。 セスガス供給システム。 じて設計、製造、 » 2～60秒以内/Lineの短 ス排気用バキューム » 形状やアクセスのカスタマイズに の高度化を実現。 » 工場の階下ファシリティから安全 » お客様のご要望フロー 検査までCKDが 時間測定で異常の早期 ジェネレータ。 より薬液の分岐やミキシングなど » 誤作動、誤操作を防ぎ漏れリスク な薬液供給を実現。 に応じ、設計から製作 ユニット保証。 発見を可能に。 » ノズル径：Φ0.5。 への使用が可能に。 を低減。 » 誤作動、誤操作を防ぎリスクを低減。 まで対応可能。 » 装置稼働プロセスの安 定化に貢献。 マニュアルバルブ（高圧用） 薬液用マニュアルバルブ（マニホールド） MMD※0H GMMD※※3RN Vacuum Vacuum Process » 大流量の薬液を流すために高 » MMD※※3RNをマニホールド化 圧・高背圧に対応可能なバルブ。 し省スペース化・配管機器類の » 工場の階下ファシリティから安全 削減を実現。 チャンバなどの排気・圧力コントロールを高精度化する高真空制御機器。 な薬液供給を実現。 » 薬液のサンプリングラインなど安 » 誤作動、誤操作を防ぎリスクを低 全性を確保しつつ確実な運用が バルブ システム機器 減。 可能。 エアオペレイトバルブ マニュアルバルブ 圧力制御システム 比例制御システム レギュレータ AVB MVB IAVB VEC-R パイロット式レギュレータ マニュアル式レギュレータ » C K D独自の成形べ » ハンドル回転式 » 従来の高真空バルブ » 高精度の高真空比例 ローズを採用した特 の高真空用マ の信頼性はそのまま 制御を実現するAPC PMP PYM・PMM 殊構造で長寿命、高耐 ニュアルバルブ。 に、多彩なプロセスを システム。 久性を実現。 » アルミボディタ 実現する圧力制御が » よりコンパクトで軽量。 » 省スペースタイプ » 純水などの圧力制御用のマニュ » 高い信頼性と使いや イプ、ステンレ 可能。 PMP002Series追加。 アル式レギュレータ。 すさを備えた高真空 スボディタイプ。 » 電空レギュレータとの組み合わせ バルブ。 で遠隔操作も可能。 Fluid System Auxiliary Components 流量調整バルブ 供給エア・冷却水高精度コントロールシステムで半導体製造に貢献。 マニュアル流量調整バルブ 電動流量調整バルブ マニュアル微小流量調整バルブ FMD MNV LYX 流量センサ » マニュアル式の流量調整バルブ » 電動式の流量調整バルブ（ニード » 微小流量を調整できるマニュア 液体用流量センサ 水制御集積ユニット 気体用流量センサ ラピフロー® （ニードルバルブ）。 ルバルブ）。 ル式の流量調整バルブ（ニードル » 接液部にフッ素樹脂を使用し腐 » 遠隔操作によって設定流量の変 バルブ）。 WFK2 WXU FSM3 食性の高い流体(塩酸・フッ酸)な 更が可能。 どでも使用可能に。 » 2018年度グッドデザイン賞受賞。 » 冷却水の循環回路の流量センサ » 1台で空気、窒素、アルゴン、炭酸 » 0.4～250L/minをカバーするカル とバルブを集積化。 ガス、混合ガスと5種類のガスに » 精密な流量調整を実現。 マン渦式流量センサ。 » 配管作業の工数を大幅軽減、フッ 対応可能な流量センサ。 » 冷却水の流量と温度管理で活躍。 トプリント80％削減で省スペース » 半導体関連パージ用途に、クリー 化。 ン仕様・ステンレスボディ仕様・ その他 流量調整付き仕様をラインナップ。 サックバックバルブ エアオペレイトバルブ・サックバルブ一体形 ファインレベルスイッチ バルブ レギュレータ AMS AMDS KML » 薬液吐出の乱れやボタ落ちを抑 » 薬液吐出の乱れやボタ落ちを抑 » 純水・酸・アルカリ・溶剤 パイロット式3・4ポート電磁弁 直動式3ポート電磁弁 パレクト電空レギュレータ え込むことで均一なレジスト塗布 え込むことで均一なレジスト塗布 など多種流体の液面レベル を実現。 を実現。 を高精度で検知し電気信号 MN3E・MN4E 3QRA/B EVS2 » 流体粘度に応じた最適化特注設 » 流体粘度に応じた最適化特注設 で出力。 » 業界最小級バルブブロック幅 » 大流量・高速切替を実現し » 30mm幅の小形・軽量・高 計対応可能。 計対応可能。 » 薬液雰囲気、異物等の環境に (7mm)・小形化(高さ39.5mm)を 装置の高速化、最適化に貢献。 性能を実現した電空レギュ » エアオペレイトバルブ一体型で 強いエア方式を採用。 実現。 » 業界トップクラスの高耐久 レータ。 配管工数の削減とコンパクト化を » 高性能3・4ポートブロックマニ （1億回）と軽量（19g）を実現。 » 薬液用パイロットレギュ 実現。 ホールド。 » 高温・高耐久ガスバルブの レータ（PMPシリーズ）の遠 » エアオペレイトバルブの駆動用途。 高速駆動用途に最適。 隔制御が可能。 5 6

Production & Technology Network 〜For Fine System Components〜 春日井工場 北陸工場 愛知県春日井市 石川県 小松市 Chemical Chemical Gas Gas Vacuum Vacuum その他日本工場： 小牧工場・四日市工場・犬山工場 東北工場 宮城県黒川郡 Chemical 韓国工場 Gas 京畿道始興市 Vacuum Chemical Gas Vacuum 中国工場 江蘇省無錫市 Chemical アメリカ Gas テクニカルセンター Vacuum Santa Clara, CA マレーシア工場 USA Austin （24年竣工予定） ケダ州クリム 台湾テクニカルセンター Manufacturing 新竹市 Austin, TX 本カタログに記載の製品及び関連技術は、外国為替及び外国貿易法のキャッチオール規制の対象となります。 本カタログに記載の製品及び関連技術を輸出される場合は、兵器・武器関連用途に使用されるおそれのないよう、ご留意ください。 The goods and/or their replicas, the technology and/or software found in this catalog are subject to complementary export regulations by Foreign Exchange and Foreign Trade Law of Japan. If the goods and/or their replicas, the technology and/or software found in this catalog are to be exported from Japan, Japanese laws require the exporter makes sure that they will never be used for the development and/or manufacture of weapons for mass destruction. 本社・工場 〒485-8551 愛知県小牧市応時2-250 TEL(0568)77-1111 FAX(0568)77-1123 東京オフィス 〒105-0013 東京都港区浜松町1-31-1（文化放送メディアプラス4階） TEL(03)5402-3620 FAX(03)5402-0120 大阪オフィス 〒532-0003 大阪府大阪市淀川区宮原4丁目2-10（PMO EX新大阪6階） TEL(06)6396-9630 FAX(06)6396-9631 ＜Website＞ https://www.ckd.co.jp/ ●このカタログに掲載の仕様および外観を、改善のため予告なく変更することがあります。 771060 ●Specifications are subject to change without notice. フリーアクセス 　 0120- お客様技術相談窓口 受付時間 9:00～12:00/13:00～17:00 ○C CKD Corporation 2024 All copy rights reserved. （土日、休日除く） 2024.9.CAC