R&D用スキャン式エキシマ照射装置レンタル

ASM86 Excimer

100V電源ユーティリティだけでエキシマ洗浄表面改質の実験検証が可能です。

株式会社あすみ技研

172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで、簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。
【特徴】

スキャン用ステージにより従来より大面積の処理が可能。
オゾン分解装置一体型で、排気設備などが不要。

発光波長 172nm
処理対象物 W86mm×D120mm以下、厚み40mm以下
照射距離調整 調整用ラボジャッキ付(照射距離0~40mmまで可変)
外形寸法 本体:(W)432mm×(D)510mm×(H)520.5mm
概算重量 約25kg (本体 20kg、照射ユニット 4.8kg)
本体材質 SUS304/A5052P/SPCC
照射ユニット
ランプメーカー 浜松ホトニクス株式会社製
型式 FLAT EXCIMER EX-86U L13129
照射面サイズ 86mm×40mm
エキシマ有効照射距離 5mm以内推奨
冷却方式 強制空冷
処理速度 0.1mm/sec~120mm/sec
処理可動範囲 240mm

タッチパネル 4インチ モノクロタッチパネル
レシピ数 20レシピ(処理速度、照射時間設定可能)
モニタ機能 現在速度・現在位置・残り時間 表示機能付き
排オゾン設備 オゾン触媒内蔵(ファン強制排気)
ユーティリティ AC100V 50/60Hz 400VA

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主な用途 ガラス表面の有機系皮膜の除去
ガラスとITOの密着性向上
ITOと絶縁膜との密着強度向上
各種塗布膜の親水化
パッケージの前処理
ウェハ表面の有機系皮膜の除去
金鍍金表面の有機系皮膜の除去、親水化
レジストのUVアッシング
レンズ表面の有機系皮膜の除去
樹脂レンズ表面の親水化
金属系蒸着膜との密着性向上
コーティング、貼合せ各前処理
メッキ加工の前処理
レジスト膜表面の有機物除去
はんだとの密着性向上
ナノインプリント用モジュールの洗浄
セラミック部品蒸着前処理
セラミック部品密着性向上
塗装と樹脂基材との密着性向上
蒸着膜と樹脂基材との密着性向上
接着剤と樹脂基材との接着性向上
布と樹脂基材との接着性向上
URL http://www.uv-asumi.com/products/uv-senjyou-product/excimer-asm86

株式会社あすみ技研

〒 113-0033
東京都文京区本郷三丁目14-16 3F

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